Die EHT-Semi Plasmaprodukte erreichen die höchste Ätzqualität bei der Halbleiterfertigung mit präziser Steuerung der Ionenenergieverteilung (IED) bei niedrigsten kritischen Mindestabmessungen und dennoch mit Ätzraten, die mit denen von HF-Generatoren vergleichbar sind.
Unser Produktspektrum für die Halbleiterfertigung ist in der folgenden Tabelle zusammengefasst. Klicken Sie auf einen beliebigen Link, um weitere Informationen zu erhalten:
Modell | Anwendungen | Uni- oder Bipolar | höchstwerte: | MHz | ||
kV | kW | A | ||||
Spartan™ | Wafer-Bias, Chucking | Unipolar | 14 | 20 | 175 | 600 |
Hoplite™ | Wafer-Bias, Chucking | Unipolar | 18 | 5 | 130 | 600 |
Perseus™ | Wafer-Bias | Bipolar | 16 | 20 | 110 | 600 |
Mid-Freq. RF™ | Wafer-Bias, Plasma-Generierung | Bipolar | 25 | 100 | 3 кА | 1 |
High-Freq. RF™ | Wafer-Bias, Plasma-Generierung | Bipolar | 10 | 20 | кА | 15 |
Spartan™ 20 kW, 175 A und 80-600 kHz Unipolar-Impulsgenerator. Kein passendes Netzwerk erforderlich – reduziert die Komplexität. Eine verbesserte Kontrolle der Ionenenergieverteilung führt zu einer verbesserten Ätzqualität. Schnelle Impulsanstiegszeit optimiert die Wafer-Einschaltzeit (Zeit, die der Wafer bei Spannungen ungleich Null verbringt).
Mehr…Hoplite™ 5 kW, 0-18 kV, 130 A und 80-600 kHz Unipolarer Impulsgenerator. Kein passendes Netzwerk erforderlich – reduziert die Komplexität. Eine verbesserte Kontrolle der Ionenenergieverteilung führt zu einer verbesserten Ätzqualität. Schnelle Impulsanstiegszeit optimiert die Wafer-Einschaltzeit (Zeit, die der Wafer bei Spannungen ungleich Null verbringt).
Mehr…Perseus Bipolarer Impulsgenerator mit 20 kW, 600 kHz, 110 A und 0–16 kV. Die programmierbare Ionenenergieverteilung führt zu einer höheren Ätzleistung, Herstellung von Strukturen mit hohem Aspektverhältnis und kleineren kritischen Abmessungen, Echtzeit-Waferspannung und IED, berechnet aus internen Messungen der Vorspannung und des Vorspannungsstroms.
Mehr…Unübertroffener HF-Generator mit 100 kW, 100 kHz - 1 MHz, 3 kA und 25 kV und sehr niedriger Impedanz, der direkt mit dem Plasma verbunden ist. „Matchless“-HF-Generatoren von EHT bringen neue Vorteile für die Halbleiterindustrie. Höhere Spannung im Vergleich zu bestehenden HF-Generatoren. Höhere Leistungsstufen können zu einem schnelleren Ätzen führen.
Mehr…Unvergleichlicher bipolarer Hochfrequenzgenerator mit 20 kW, 15 MHz und 0-10 kV. Semi-matchless-HF-Generatoren von EHT bringen neue Vorteile für die Halbleiterindustrie. Höhere Spannung im Vergleich zu bestehenden HF-Generatoren. Höhere Leistungsstufen können zu einem schnelleren Ätzen führen.
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